華中科技大學(xué)機(jī)械科學(xué)與工程學(xué)院研究生導(dǎo)師：陳修國(guó)

• 2025考研復(fù)試標(biāo)準(zhǔn)班
• 26考研全科上岸規(guī)劃營(yíng)「擇校▪規(guī)劃▪備考」
• 華中科技大學(xué)2026考研專業(yè)課復(fù)習(xí)資料「真題▪筆記▪講義▪題庫(kù)」

華中科技大學(xué)機(jī)械科學(xué)與工程學(xué)院研究生導(dǎo)師陳修國(guó)介紹如下：

姓名：陳修國(guó)

電話：027-87558045

職稱：講師

郵箱：xiuguochen@hust.edu.cn

個(gè)人基本情況

陳修國(guó)（Chen Xiuguo, Lecturer），男，博士。2013年6月博士畢業(yè)于華中科技大學(xué)機(jī)械電子工程專業(yè)，同年進(jìn)入華中科技大學(xué)材料學(xué)院博士后流動(dòng)站，2016年6月出站，留校工作。

主要從事微納光學(xué)測(cè)量技術(shù)與儀器方面的研究工作。在Applied Physics Letters、Optics Express、Journal of Applied Physics、Review of Scientific Instruments等國(guó)際著名期刊發(fā)表SCI論文20余篇；申請(qǐng)國(guó)際國(guó)內(nèi)發(fā)明專利10余項(xiàng)，其中授權(quán)專利9項(xiàng)。

曾獲山東省優(yōu)秀畢業(yè)生、華中科技大學(xué)優(yōu)秀畢業(yè)研究生、華中科技大學(xué)優(yōu)秀博士后、第四屆上銀優(yōu)秀機(jī)械博士論文佳作獎(jiǎng)、機(jī)械學(xué)院“優(yōu)秀博士后獎(jiǎng)勵(lì)計(jì)劃”、第43屆日內(nèi)瓦國(guó)際發(fā)明金獎(jiǎng)(排名3)等榮譽(yù)。

目前，主持有國(guó)家自然科學(xué)基金青年基金項(xiàng)目1項(xiàng)、中國(guó)博士后科學(xué)基金面上項(xiàng)目一等資助和特別資助項(xiàng)目各1項(xiàng)。作為項(xiàng)目骨干，先后參入了國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)、國(guó)家自然科學(xué)基金重大研究計(jì)劃培育項(xiàng)目等5項(xiàng)。

主要研究方向

微納光學(xué)測(cè)量技術(shù)與儀器

開設(shè)課程

1. 數(shù)字電路

2. 光譜橢偏測(cè)量概論

近年的科研項(xiàng)目、專著與論文、專利、獲獎(jiǎng)承擔(dān)的科研項(xiàng)目：

[1]  國(guó)家自然科學(xué)基金青年基金項(xiàng)目，納米結(jié)構(gòu)廣義成像橢偏儀橢偏測(cè)量理論與方法研究，51405172，2015/01–2017/12

[2]  中國(guó)博士后科學(xué)基金特別資助項(xiàng)目，基于離焦掃描廣義成像橢偏儀的三維納米結(jié)構(gòu)測(cè)量方法，2015T80791，2015/04–2016/09

[3]  中國(guó)博士后科學(xué)基金面上項(xiàng)目 (一等資助)，基于廣義成像橢偏儀的納米結(jié)構(gòu)幾何參數(shù)測(cè)量方法研究，2014M560607，2014/07–2015/07

代表性著作：

[1]X. G.Chen, C. W. Zhang, and S. Y. Liu, “Depolarization effects from nanoimprintedgrating structures as measured by Mueller matrix polarimetry,” Applied PhysicsLetters 105(15), 151605, 2013

[2]X. G.Chen, S. Y. Liu, C. W. Zhang, and H. Jiang, “Improved measurement accuracy inoptical scatterometry using correction-based library search,” Applied Optics52(27), 6727-6734, 2013

[3]X. G.Chen, S. Y. Liu, C. W. Zhang, H. Jiang, Z. C. Ma, T. Y. Sun, and Z. M. Xu,“Accurate characterization of nanoimprinted resist patterns using Muellermatrix ellipsometry,” Optics Express 22(12), 15165-15177, 2014

[4]X. G.Chen, C. W. Zhang, S. Y. Liu, H. Jiang, Z. C. Ma, and Z. M. Xu, “Mueller matrixellipsometric detection of profile asymmetry in nanoimprinted gratingstructures,” Journal of Applied Physics 116(19), 194305, 2014

[5]X. G.Chen, S. Y. Liu, H. G. Gu, and C. W. Zhang, “Formulation of error propagationand estimation in grating reconstruction by a dual-rotating compensator Muellermatrix polarimeter,” Thin Solid Films 571, 653-659, 2014

[6]X. G.Chen, H. Jiang, C. W. Zhang, and S. Y. Liu, “Towards understanding thedetection of profile asymmetry from Mueller matrix differential decomposition,”Journal of Applied Physics 118(22), 225308, 2015

[7]X. G.Chen, W. C. Du, K. Yuan, J. Chen, H. Jiang, C. W. Zhang, and S. Y. Liu,“Development of a spectroscopic Mueller matrix imaging ellipsometer fornanostructure metrology,” Review of Scientific Instruments 87(5), 053707, 2016