武漢理工大學(xué)

一、姓名：夏冬林

二、基本情況：

1、出生年月：1964.11

2、學(xué)位：博士

3、職稱：副研究員

4、工作院系：硅酸鹽建筑材料國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

三、教育經(jīng)歷：

1982.9-1986.7：湖北大學(xué)物理系，物理教育專業(yè)，理學(xué)學(xué)士學(xué)位。

1995.9-1998.7：湖北大學(xué)壓電陶瓷技術(shù)研究所，無機(jī)非金屬材料專業(yè)，工學(xué)碩士學(xué)位。

1998.9-2002.6：華中科技大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)系，微電子學(xué)與固體電子學(xué)專業(yè)，工學(xué)博士學(xué)位。

2007.09-2008.01，四川外國語學(xué)院，英語培訓(xùn)班，進(jìn)修生。

四、工作經(jīng)歷：

1986.7-1995.8，長航集團(tuán)子弟中學(xué)任教，物理教師，中教一級(jí)。

2002.7-2005.10，武漢理工大學(xué)硅酸鹽建筑材料教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，講師。

2002.08-2006.05，武漢理工大學(xué)，材料科學(xué)與工程學(xué)院，博士后。

2010.05-2011.05，德國亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心，訪問學(xué)者。

2005/11-至今，武漢理工大學(xué)硅酸鹽建筑材料國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，副研究員。

五、研究領(lǐng)域(不多于3個(gè))：

1、硅基薄膜太陽能電池材料及器件

2、光電子功能薄膜材料

3、納米材料的制備及性能研究

六、科研項(xiàng)目(不多于5項(xiàng))：

1、國家自然科學(xué)基金：CuInS2量子點(diǎn)/ZnO納米晶陣列異質(zhì)界面的結(jié)構(gòu)調(diào)控及電荷轉(zhuǎn)移機(jī)理研究(51402225)，2015.01～2017.12，技術(shù)負(fù)責(zé)人。

2、國家自然科學(xué)基金：納米ABO2結(jié)構(gòu)p型半導(dǎo)體材料水熱生長機(jī)理及其光電性能調(diào)控(51402223)，2015.01～2017.12，技術(shù)負(fù)責(zé)人。

3、橫向項(xiàng)目：一種新型微結(jié)構(gòu)的薄膜用于硅薄膜太陽能電池的研究，2012-2014.

七、代表性論文及著作(不多于10項(xiàng))：

[1] Donglin XIA, XU Jun，Wenqing SHI, Pan LEI, and Xiujian ZHAO. Synthesis and Properties of SnS Thin Films by Chemical Bath Deposition，Key Engineering Materials, 509,pp 333-338,2012.

[2] Dong-lin XIA, Pan LEI, Yu-chen ZHENG, Xiu-jian ZHAO.Investigation on Synthesis and Characterization of Cu2ZnSnS4 Nanocrystals[C].The XIII International Conference on the Physics of Non-Crystalline Solids.Sept.16-20, Yichang Three Gorges, Hubei, P.R.China,2012.

[3] Dong-lin XIA, Yu-chen ZHENG, Pan LEI, Xiu-jian ZHAO.Characterization of Cu2ZnSnS4 thin films prepared by solution-based deposition techniques[C].The XIII International Conference on the Physics of Non-Crystalline Solids.Sept.16-20, Yichang Three Gorges, Hubei,P.R.China, 2012.

[4] Wei Li, Donglin Xia, Huifang Wang, Xiujian Zhao. Hydrogenated nanocrystalline silicon thin film prepared by RF-PECVD at high pressure.Journal of Non-Crystalline Solids, 2010, 356: 2552–2556.

[5] Li, Wei, Xia, Donglin, Song, Minxia, Zhang, Zhenzhong, Ni, Jiamiao, Zhao, Xiujian. Nickel Induced Lateral Crystallization of Amorphous Silicon Film by Electroless Planting,Advanced Materials Research,2009,66:147-150.

[6] XIA Dong-lin, ZHANG Xing-liang, SONG Ming-xia,et al. Preparation and Characterization of CuInS2 Thin Film by Sol-gel Method. Journal of Wuhan University of Technology, 2010, 32(21):1-4

[7]XIA Dong-lin, WANG Hui-fang, SHI Zheng-zhong, et al. Preparation and Characterization of Boron-Doped p-type a-Si:H Thin Film, Imaging Science and Photochemistry, 2010, 28(4): 296-304

[8] XIA Dong-lin, SHI Zheng-zhong,Zhang Xing-liang, et al. Influence of Annealing on the Composition and Optical Properties of ZnS Thin Films Fabricated by Electrodeposition, Journal of Synthetic Crystals, 2010, 39(2):392-395.

[9] XIA Dong lin, LIU Jun, ZHA NG Xingliang,et al. Effects of Sulfurization Temperature on Microstructure and Optical Properties of CuInS2 Films,Materials Review, 2011,25(1):7-9+19.

[10]XIA Dong-lin，XU Jun，LIU Jun，et al. Effects of Sulfurization Time on Microstructure of CuInS2 Films, Journal of Synthetic Crystals, 2012, 41(1):20-23.

八、聯(lián)系方式：

1、Tel：027-87669729

2、E-mail：donglinxia@126.com; donglinxia@whut.edu.cn

3、工作地址(實(shí)驗(yàn)室)：硅酸鹽建筑材料國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室玻璃與納米功能材料研究室

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